感光性干膜"Photec"—激光直描成像用SL系列

感光性干膜

SL系列适合UV气体激光、UV固体激光等激光直描成像(直接描绘),是一款具备高感光度・高解析度特性及优秀盖孔性的感光性干膜。


特点

SL1300系列

  • 代表性干膜型号:SL-1329/1338

  • 适用于直接成像355nm波长的曝光系统

  • 高感光特性,可以有效提升生产效率

  • 优良的解析度和密着特性,有助于精细线路的形成

  • 高对比性,曝光与未曝光的干膜颜色对比度明显,有助于提升对品质的检查

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SL-1329显影后的干膜侧壁(L/S=50/50um)SL-1338显影后的干膜侧壁(L/S=50/50um)


SL-1329/SL-1338的一般特性(测试数据的一例)

特性SL-1329SL-1338
适用工艺盖孔/蚀刻盖孔/蚀刻
感光ST(ST=X/41)17±314±3
曝光能量(mj/cm2)ST=14/4189
ST=17/411112
ST=20/411516
最短显影时间(sec)2129
解析度ST=14/412530
ST=17/412027.5
ST=20/412527.5
密着性ST=14/4127.532.5
ST=17/4122.527.5
ST=20/4117.522.5
圆孔破孔率(显影1,2,3次:%)Ф6mm0,2,90,0,4
Ф5mm0,0,00,0,0
Ф4mm0,0,00,0,0


SL1800系列

  • 代表性干膜型号:SL-1820/1825

  • 适用于直接成像355nm波长的曝光系统。

  • 高感光特性,可以有效提升生产效率。

  • 优良的解析度和密着特性,有助于精细线路的形成。

  • 感光性干膜Photec激光直描成像用RD系列


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SL-1825显影后的侧壁(L/S=30/30um)


SL-1820/SL-1825的一般特性(测试数据的一例)

特性SL-1820SL-1825
适用工艺盖孔/蚀刻盖孔/蚀刻
感光ST(ST=X/41)17±317±3
曝光能量(mj/cm2)ST=14/41810
ST=17/411013
ST=20/411419
最短显影时间(sec)1314
解析度ST=14/411325
ST=17/4122.520
ST=20/411517.5
密着性ST=14/4122.525
ST=17/411520
ST=20/4112.517.5


*本文章中的数据是在力森诺科集团的实验条件下所测得的结果。